レーザーアシストCVD装置

★ MPCVD-Laser ★

レーザー描画によるパターン成膜が可能

概 要 :  
  •  市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス(炭化水素ガスやアンモニアガスなど)の
    導入・排出機能を有する試料チャンバーを設置、その中に基板を置く。
  •  レーザー光は上から、チャンバーの透明ガラスを通って、基板に照射し、
    平面内でスキャンしながら、お好みのパターン内に選択的にCVD成膜ができる
  •  ご希望の目的に合わせて作製しますので、詳細はご相談ください。

炭化水素ガスによるチタン基板へのパターン化カーボン成膜