RFプラズマアシストCVD装置

◆ MPCVD-Plasma ◆

ガスのイオン化や前駆体の分解を促進

概 要 :  
  •  横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、
    入力ガスあるいは前駆体のイオン化を促進し、熱CVDゾーンでの反応効率を上げる。
  •  ご希望の目的に合わせて作製しますので、詳細はご相談ください。