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高精度真空蒸着装置

MPVAP 360度回転/傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が4倍に

MPTH-Multi

※実際の商品は写真と一部異なる場合があります。

目 的: 基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。
特 徴:
  • ・当社独自開発の360℃回転キュービック試料ホルダーを搭載、蒸着効率が4倍向上
  • ・水晶振動型膜厚モニターを搭載、上記ホルダーとの相乗効果で、
  •  より精密な膜厚が制御可能
  • ・上記ホルダーにより、斜め蒸着、両面蒸着が可能
  • ・2種類の蒸発源を搭載、多層膜が形成可能
  • ・自動スタートボタンで、操作簡単
   
 キュービックホルダー

 当社発案の360度回転キュービック基板ホルダーを搭載し、試料設置面積を4倍向上させました。真空を破 らず、1回のプロセスで、4つの成膜条件のサンプルが作製できます。膜厚依存性や蒸着条件依存性を調べるのに非常に便利な 機能です。

 SEM観察用試料の作製など3次元試料表面への蒸着を行う場合、試料ホルダーを回転しながら蒸着すること により、3次元試料の各方向からの蒸着を実現することができ、明瞭なSEM立体観察が可能になります。さらに、縦型専用持具 を取り付ければ、1回のプロセスで基板の両面に蒸着することも可能になります。

 また、この回転ホルダーをうまく利用すると、蒸発源シャッターの開閉に伴う膜厚センサーへの輻射熱変 動問題を回避することができ、忠実かつ精密な膜厚データが得られます。 専門的な話になりますが、通常使われている水晶 振動型膜厚モニターの膜厚表示データは、センサーの温度変動に敏感に反応します。 蒸発源シャッターを開閉する瞬間、高 温の蒸発坩堝からのセンサーへの輻射熱変動も同時に発生するため、実際の膜厚と異なるデータが示されます。回転ホルダー を使う場合、シャッターを最初から開けっ放しにしておき、蒸発源坩堝の温度が平衡状態になった状態でキュービックホルダ ーを回転させれば、基板への蒸着開始・終了を実現でき、センサーへの輻射熱の変動が生じません。

MPVAP模式図

キュービックホルダー模式図