QLOOKアクセス解析

回転CVD炉

MPCVD-Powder 粉体表面へのカーボンコート/各種熱処理などに 

価格は お問合わせ
回転炉_説明入写真.jpg

※実際の商品は外観図と一部異なる場合があります。

目 的: 粉末試料の表面にカーボン膜をCVDコートするための回転型管状炉CVD装置です
特 徴:
  • ・石英炉心管をモーター駆動で回転させ、粉末試料を攪拌させながら、CVD処理を可能にしたCVD装置です
  • ・常圧モードでも、減圧モードでも、回転機構が動作可能で、ムラなく、均一なCVD処理、熱処理が実現できます
  •                       
  • ・リチウムイオン電池負極材へのカーボンコートや、セラミックス粉末表面へのカーボンコートに最適
  • ・その他の機能はMPCVD-50 に準じる

 

主な仕様

基本構成 管状炉 常用使用温度 400~1000℃
適応チューブ外径 ~50㎜φ
温度制御 1ゾーン プログラム付温度調節計
外形寸法 W550㎜×H300㎜×D450㎜
ブレーカー容量 AC100V 20A 単相50/60Hz
炉心管 材質 石英
サイズ OD50㎜×ID45㎜×L800㎜
ガス制御 マスフローコントローラ
導入ガス種 キャリアガス:N2 or Ar
還元ガス:H2
炭化水素ガス:C2H2 or C2H4 or CH4
外形寸法(ボックス) W250㎜×H310㎜×D450㎜
真空計 ブルドン管真空計
排気ポンプ ロータリーポンプ
外形寸法 W156㎜×H200㎜×D300㎜
オプション: 液体原料導入系
オプション: 触媒前駆体供給ポート