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ロータリキルン式連続CVD装置

MPCVD-RotaryKiln  粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

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連続CVD処理装置.JPG

※実際の商品は写真と一部異なる場合があります。

目 的: 反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。
特 徴:
  • ・炉心管の傾斜角度および回転速度の調整により、粉末試料の素性に合わせた導入速度の調整が可能
  • ・試料導入用回転機構と、CVD処理用回転機構との独立2系統の回転機構を装備し、処理レートの制御が可能
  • ・反応室を解放せず、冷却せず、連続CVD処理を実現

 最高1000℃のプログラム加熱炉と、各種ガス導入・流量制御システム、真空排気システムが備えているため、粉末試料の表面コート処理、熱処理、あるいは各種CVD処理に利用できます。

 CNTの大量合成や、複合材料の母材にCNTを直接分散成長させることも可能です。複合材料の母材と触媒 (あるいは触媒前駆 体)とを混合・分散させたものを用いてCNT生成を行えば、母材粒子の表面や母材粉末の間にCNTが生成され、 CNTが分散され た状態の複合材料を直接作製することができ、CNTの添加濃度や分散性を高めることができます。